ASML 2021净利润58.83亿美元，微处理器买下ASML最先进光刻机

当地时间周三，世界各地最大者的蚀刻机公司ASML发布了2021年Q4上半年及全年净值。

2021年Q4上半年，ASML公司解决问题清净经销商楞49.86亿总成本，毛利率54.2%，，清净利润17.74亿总成本，该季清净下单楞71亿总成本。

至于2021年，ASML公司解决问题清净经销商楞186.11亿总成本，较上一财年增长33%，清净利润也从35.54亿总成本涨至58.83亿总成本，全年清净下单楞达到262.4亿总成本，较上半年翻了一倍，需求强烈。

ASML CEO表示：“我们对系统设计的需求临界值出了我们的生产潜能所能承受的区域。终端市场十分强劲的需求给我们的投资者随之而来了更为砷化镓圆形开采量的压力。为了赞成我们的投资者，我们正试图为他们的投资者透过极高生活水准追加解决方案。装上基础，我们正试图缩短工厂的周期时间以输送更为多系统设计。减小周期时间的一种原理是太快速出货，例如会有我们工厂的一些测试工作。之后测试和正式复工随后在投资者处同步进行这导致这些出货量的收入确认顺延到投资者正式给予之前，但确实为我们的投资者透过了更为晚获得晶圆形输出潜能的机则会。

2021年中，ASML出货了EUV蚀刻机总计多达42套，2020年是31套，解决问题营收63亿美元，算下来平均每套EUV蚀刻机要1.5亿总成本，折合韩圆形10.8亿元。

其中Q4上半年上新增的71亿总成本蚀刻机下单中，除了当前NA 0.33的EUV蚀刻机均，还首次解决问题NA 0.55极高数值孔径EUV蚀刻机的经销商，这一个下单是英特尔交付的。

该蚀刻机机型为ASML TWINSCAN EXE:5200，TWINSCAN EXE:5200是ASML的极高NA（数值孔径）EUV蚀刻机，其吞吐量临界值每小时220片晶圆形（wph）。

从指示牌来看，EXE:5200原计划最太快2024年底投入使用，2025年开始大规模应用以现代化ROM的生产。

和0.33NA蚀刻机相比，0.55NA的精度从13nm追加到8nm，可以更为太快更为好地揭露更为复杂的集成电路花纹，有所突破0.33NA单次人物画32nm到30nm间距的临界值。

确实原计划，第一代极高NA蚀刻机EXE:5000则会率先用以3nm键值，至于EXE:5200，按照Intel的制程指示牌，2025年至少是20A或者18A，也就是5nm和5nm+。

之前，ASML美联社曾对舆论披露，更为佳的蚀刻精度将允许ROM增加1.7倍、同时密度增加2.9倍。将会比3nm更为现代化的工艺，将极度依赖极高NA EUV蚀刻机。

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